雪崩40纳米pMTJ STT-MRAM-内存TechStream博客

郑东财
Jeongdong Choe,高级技术研究员
Choe Jeongdong博士是TechInsights的高级技术研究员,在DRAM、(V)NAND、SRAM和逻辑器件的半导体工艺集成方面拥有近30年的经验。他定期向TechInsights Memory用户提供博客内容。

2020年9月25日

TechInsights最终找到了雪崩40纳米pMTJ STT-MRAM器件,并对其进行了深入分析。STT-MRAM仍然是一种很有前途的新型存储器技术,具有非常理想的性能,包括非常高(超过20年)的耐久性。STT-MRAM设备已经开发并商业化,具有面内MTJ(i-MTJ)或垂直MTJ(p-MTJ)类型,来自许多MRAM厂商,如三星、索尼、Everspin、雪崩、瑞萨、台积电、UMC和英特尔(图1,MRAM/STT-MRAM技术和产品路线图)

在Renesas M3008204串行外围接口永久存储器(雪崩芯片标记如图2和3所示)上使用的STT-MRAM单元设计和结构显示了40 nm p-MTJ层,单元尺寸为0.032µm2。MRAM层位于M1源线之下,在Contact-1和Contact-2之间,与三星和Everspin的相比非常独特。表1显示了MRAM技术的简要总结和比较。

雪崩40nm pMTJ STT-MRAM

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